[发明专利]光学膜、偏振片、图像显示装置、光学膜的制造方法以及偏振片的制造方法

摘要

本发明能够提供一种即使在与使用环烯烃类聚合物的聚合物膜相邻而设置液晶层的情况下，也不会使液晶性化合物的取向性恶化而能够确保聚合物膜与液晶层的密合性的光学膜、使用该光学膜的偏振片、图像显示装置、光学膜的制造方法以及偏振片的制造方法。本发明的光学膜具有包含环烯烃类聚合物的聚合物膜和与聚合物膜相邻设置的液晶层，液晶层使用含有液晶性化合物和特定结构的化合物的液晶组合物而形成，在液晶组合物中相对于液晶性化合物的质量含有0.5～7.0质量％的特定结构的化合物，规定的偏在值为20～80％。

主权项

1.一种光学膜，其具有：包含环烯烃类聚合物的聚合物膜、以及与所述聚合物膜相邻设置的液晶层，所述液晶层使用含有液晶性化合物和下述式(I)所示的化合物的液晶组合物而形成，在所述液晶组合物中，相对于所述液晶性化合物的质量含有0.5～7.0质量％的下述式(I)所示的化合物，下述式(1‑1)所示的偏在值为20～80％，式(I)(Z)n‑L100‑(Q)m所述式(I)中，Z表示具有聚合性基团的取代基，n表示0～4的整数，在n为2～4的整数的情况下，2个以上的Z可以分别相同也可以不同，Q表示含有至少一个硼原子的取代基，m表示1或2，在m为2的情况下，2个Q可以分别相同也可以不同，L100表示n+m价的连结基，其中，在n表示0并且m表示1的情况下，L100表示氢原子、取代或未取代的烷基、取代或未取代的烯基、取代或未取代的炔基、取代或未取代的芳基、或者取代或未取代的杂芳基，式(1‑1)S0.1/Stotal×100％所述式(1‑1)中，Stotal表示利用飞行时间二次离子质谱分析法检测的BO2‑的二次离子强度的积分值，S0.1表示所述液晶层的从与所述聚合物膜之间的界面到所述液晶层的膜厚的1/10的距离处为止的区域内的利用飞行时间二次离子质谱分析法检测的BO2‑的二次离子强度的积分值。