[发明专利]形成含SI膜的组合物及其制造与使用方法

摘要

披露了形成含SI膜的组合物，这些组合物包含具有下式的前体[‑NR‑R4R5Si‑(CH2)t‑SiR2R3‑]n其中n＝2至400；R、R2、R3、R4、和R5独立地是H、烃基、或烷基氨基，并且其条件是R2、R3、R4、和R5中的至少一个是H；并且R独立地是H、烃基或甲硅烷基。示例性前体包括但不限于[‑NH‑SiH2‑CH2‑SiH2‑]n和[‑N(SiH2‑CH2‑SiH3)‑SiH2‑CH2‑SiH2‑]n。

主权项

1.一种形成含SI膜的组合物，其包含含有具有下式的单元的前体：[‑NR‑R4R5Si‑(CH2)t‑SiR2R3‑]n  (II)其中t＝1至4；n＝2至400；R2、R3、R4、和R5独立地是H、C1至C6烃基、或具有式NR”2的烷基氨基并且每个R”独立地是H、C1‑C6烃基、C6‑C12芳基，或NR”2形成环胺基团，并且其条件是R2、R3、R4、和R5中的至少一个是H；并且R是H；C1‑C6烃基；具有式SixR’2x+1的甲硅烷基，其中x＝1至4并且每个R’独立地＝H、C1‑C6烃基、或具有式NR”2的烷基氨基并且每个R”独立地是H、C1‑C6基团、C6‑C12芳基，或NR”2形成环胺基团；或R1’R2’R3’Si(CH2)bSiR4’R5’基团，其中b＝1至2并且R1’、R2’、R3’、R4’、和R5’独立地是H、C1‑C6烃基、C6‑C12芳基、或具有式NR”2的烷基氨基并且每个R”独立地是H、C1‑C6基团、C6‑C12芳基，或NR”2形成环胺基团；并且其条件是R1’、R2’、R3’、R4’、和R5’中的至少一个是H。