[发明专利]磁盘用铝合金坯体和磁盘用铝合金基片有效
| 申请号： | 201780019748.8 | 申请日： | 2017-03-10 |
| 公开（公告）号： | CN108884520B | 公开（公告）日： | 2020-07-17 |
| 发明（设计）人： | 小室秀之;梅田秀俊 | 申请（专利权）人： | 株式会社神户制钢所 |
| 主分类号： | C22C21/00 | 分类号： | C22C21/00;C22C21/06;C22C21/10;C22C21/12;C22F1/04;C22F1/047;C22F1/053;C22F1/057;G11B5/73;C22F1/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 吴克鹏 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的一个实施方式的磁盘用铝合金坯体，有Mg：3.00质量％以下、Si：1.00质量％以下，含有Fe：6.0质量％以下、Mn：10.0质量％以下、Ni：10.0质量％以下之中的至少一种，并且其合计量为10.0质量％以下，余量由Al和不可避免的杂质构成，表面上金属间化合物所占的面积率为5～40％，且单质Si和Mg－Si系金属间化合物的面积率的合计为1％以下。 | ||
| 搜索关键词： | 磁盘 铝合金 | ||
【主权项】：
1.一种磁盘用铝合金坯体，其特征在于，Mg：3.00质量％以下，Si：1.00质量％以下，含有Fe：6.0质量％以下、Mn：10.0质量％以下、Ni：10.0质量％以下之中的至少一种，且其合计量为10.0质量％以下，余量由Al和不可避免的杂质构成，表面上金属间化合物所占的面积率为5～40％且单质Si和Mg－Si系金属间化合物的面积率的合计为1％以下。
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