[发明专利]用于化学机械抛光的纹理化的小垫在审
| 申请号： | 201780019865.4 | 申请日： | 2017-03-17 |
| 公开（公告）号： | CN108883515A | 公开（公告）日： | 2018-11-23 |
| 发明（设计）人： | 吴政勋;E·C·苏亚雷斯;J·G·方;E·刘;K·Y·兴;A·M·乔卡里汉;D·莱德菲尔德;C·C·加勒森;T·H·奥斯特赫尔德 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | B24B37/26 | 分类号： | B24B37/26;B24B37/04;B24B37/10;B24B37/34;H01L21/306 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 侯颖媖;金红莲 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 化学机械抛光系统包含：基板支撑件，所述基板支撑件经配置以保持基板；抛光垫组件，所述抛光垫组件包含膜及抛光垫部分，所述抛光垫部分具有抛光表面、抛光垫载具及驱动系统，所述驱动系统经配置以造成所述基板支撑件与所述抛光垫载具之间的相对运动。所述抛光垫部分在与所述抛光表面相对的一侧上结合至所述膜。所述抛光表面具有平行于所述抛光表面、比所述基板的直径小至少四倍的宽度。所述抛光垫部分的外表面包含至少一个凹部及具有顶部表面的至少一个平台部，所述顶部表面提供所述抛光表面。所述抛光表面具有多个边缘，所述多个边缘由所述至少一个凹部的侧壁与所述至少一个平台部的顶部表面之间的交会处来界定。 | ||
| 搜索关键词： | 抛光表面 抛光垫 基板支撑件 顶部表面 抛光垫组件 驱动系统 平台部 凹部 基板 载具 化学机械抛光系统 化学机械抛光 交会处 纹理化 侧壁 界定 小垫 配置 平行 | ||
【主权项】：
1.一种化学机械抛光系统，包括：基板支撑件，所述基板支撑件经配置以在抛光操作期间保持基板；抛光垫组件，所述抛光垫组件包含膜及抛光垫部分，所述抛光垫部分具有在所述抛光操作期间接触所述基板的抛光表面，所述抛光垫部分在与所述抛光表面相对的一侧上结合至所述膜，所述抛光表面具有平行于所述抛光表面、比所述基板的直径至少小四倍的宽度，其中所述抛光垫部分的外表面包含至少一个凹部及具有顶部表面的至少一个平台部，所述顶部表面提供所述抛光表面，且其中所述抛光表面具有多个边缘，所述多个边缘由所述至少一个凹部的侧壁与所述至少一个平台部的顶部表面之间的交会处来界定；一抛光垫载具，所述抛光垫载具用以保持所述抛光垫组件并按压所述抛光表面抵住所述基板；及驱动系统，所述驱动系统经配置以造成所述基板支撑件与所述抛光垫载具之间的相对运动。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于应用材料公司，未经应用材料公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201780019865.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：利用珩磨工具生产旋转对称的非圆柱形孔的方法及珩磨机
- 下一篇：喷丸处理装置
