[发明专利]有机聚硅氧烷、化妆品及有机聚硅氧烷的制备方法有效
| 申请号： | 201780021139.6 | 申请日： | 2017-02-20 |
| 公开（公告）号： | CN109071822B | 公开（公告）日： | 2021-10-22 |
| 发明（设计）人： | 龟井正直 | 申请（专利权）人： | 信越化学工业株式会社 |
| 主分类号： | C08G77/48 | 分类号： | C08G77/48;A61K8/06;A61K8/891;A61Q1/00;A61Q17/04;A61Q19/00;C08G77/46 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 张晶;谢顺星 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
本发明为下述平均式(1)所示的有机聚硅氧烷。由此，提供能够抑制经时地因来自Si‑H基的氢气导致的容器的膨胀或来自脂肪族不饱和基团的异味的产生，能够提供乳化稳定性优异且化妆持续性良好的化妆品的有机聚硅氧烷及含有该有机聚硅氧烷的化妆品，[化学式1] |
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| 搜索关键词： | 有机 聚硅氧烷 化妆品 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种有机聚硅氧烷，其为下述平均式(1)所示的有机聚硅氧烷，其中，[化学式1]![]()
式(1)中，R1各自独立地为选自碳原子数1～30的烷基、碳原子数1～30的氟取代烷基、碳原子数6～30的芳基、及碳原子数7～30的芳烷基的基团，R2为碳原子数2～15的可经由氧原子的二价有机基团，R3为氢原子及碳原子数1～30的烷基中的任意一种，R4各自独立地为选自碳原子数2～30的烷基及下述平均式(2)所示的有机聚硅氧烷的基团，a为1～500，b为1～10，c为1～10；其中，c为1时，R4各自独立地为碳原子数14～30的烷基或下述平均式(2)所示的有机聚硅氧烷，[化学式2]![]()
式(2)中，R1与式(1)中的R1相同，R5为碳原子数2～15的二价有机基团，d为1～500。
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