[发明专利]金属氧化物膜形成用涂布剂及具有金属氧化物膜的基体的制造方法有效
| 申请号： | 201780021865.8 | 申请日： | 2017-03-29 |
| 公开（公告）号： | CN108884574B | 公开（公告）日： | 2022-10-14 |
| 发明（设计）人： | 三隅浩一;C·科多尼尔 | 申请（专利权）人： | 东京应化工业株式会社;株式会社JCU |
| 主分类号： | C23C26/00 | 分类号： | C23C26/00;C01B13/14;C23C18/18 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 杨宏军;唐峥 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
本发明提供含有与N,N‑二甲基乙酰胺(DMA)、N‑甲基吡咯烷酮(NMP)不同的有机溶剂、且保形涂布性优异的金属氧化物膜形成用涂布剂及具有金属氧化物膜的基体的制造方法。金属氧化物膜形成用涂布剂，其含有溶剂和金属，溶剂含有下述的式(1)表示的化合物(A)。式(1)中，R |
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| 搜索关键词： | 金属 氧化物 形成 用涂布剂 具有 基体 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.金属氧化物膜形成用涂布剂，其含有溶剂和金属，所述溶剂含有下述的式(1)表示的化合物(A)，[化学式1]![]()
式(1)中，R1及R2各自独立地为碳原子数1～3的烷基，R3为下式(1‑1)或下式(1‑2)表示的基团，[化学式2]![]()
式(1‑1)中，R4为氢原子或羟基，R5及R6各自独立地为碳原子数1～3的烷基，式(1‑2)中，R7及R8各自独立地为氢原子、或碳原子数1～3的烷基。
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