[发明专利]在纳米压印光刻中除去基材预处理组合物有效
| 申请号： | 201780022031.9 | 申请日： | 2017-03-17 |
| 公开（公告）号： | CN109073968B | 公开（公告）日： | 2021-09-17 |
| 发明（设计）人： | 蒂莫西·布赖恩·斯塔霍维亚克;刘卫军;尼亚兹·科斯纳蒂诺夫;叶正茂;伊藤俊树 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F7/004;H01L21/02;C08F2/48 |
| 代理公司： | 北京魏启学律师事务所 11398 | 代理人： | 魏启学 |
| 地址： | 日本东京都大*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种从压印的纳米压印光刻基材除去未固化的预处理组合物的纳米压印光刻方法。该方法包括将预处理组合物配置在纳米压印光刻基材上以形成预处理涂层，和将压印抗蚀剂的离散部分配置在预处理涂层上，压印抗蚀剂的各离散部分覆盖纳米压印光刻基材的目标区域。随着压印抗蚀剂的各离散部分铺展超出其目标区域，在纳米压印光刻基材上形成复合聚合性涂层，并且使复合聚合性涂层与纳米压印光刻模板接触。使复合聚合性涂层聚合以在纳米压印光刻基材上产生复合聚合物层和预处理涂层的未固化部分，并且从纳米压印光刻基材除去预处理涂层的未固化部分。 | ||
| 搜索关键词： | 纳米 压印 光刻 除去 基材 预处理 组合 | ||
【主权项】：
1.一种纳米压印光刻方法，其特征在于，其包括：将预处理组合物配置在纳米压印光刻基材上以在所述纳米压印光刻基材上形成预处理涂层，其中所述预处理组合物包括聚合性组分；将压印抗蚀剂的离散部分配置在所述预处理涂层上，所述压印抗蚀剂的各离散部分覆盖所述纳米压印光刻基材的目标区域，其中所述压印抗蚀剂是聚合性组合物；随着所述压印抗蚀剂的各离散部分铺展超出其目标区域，在所述纳米压印光刻基材上形成复合聚合性涂层，其中所述复合聚合性涂层包括所述预处理组合物和所述压印抗蚀剂的混合物；使所述复合聚合性涂层与纳米压印光刻模板接触；使所述复合聚合性涂层聚合以在所述纳米压印光刻基材上产生复合聚合物层和所述预处理涂层的未固化部分；和从所述纳米压印光刻基材除去所述预处理涂层的所述未固化部分。
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