[发明专利]在纳米压印光刻中的固化基材预处理组合物有效
| 申请号： | 201780022173.5 | 申请日： | 2017-03-28 |
| 公开（公告）号： | CN108885395B | 公开（公告）日： | 2022-03-29 |
| 发明（设计）人： | 蒂莫西·布赖恩·斯塔霍维亚克;刘卫军 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;B29C59/02;B82Y10/00 |
| 代理公司： | 北京魏启学律师事务所 11398 | 代理人： | 魏启学 |
| 地址： | 日本东京都大*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 纳米压印光刻法包括将预处理组合物配置在纳米压印光刻基材上以形成预处理涂层；将压印抗蚀剂的离散部分配置在预处理涂层上，所述压印抗蚀剂的各离散部分覆盖纳米压印光刻基材的目标区域。压印抗蚀剂是聚合性组合物并且包含聚合引发剂。随着压印抗蚀剂的各离散部分展开超出纳米压印光刻基材的目标区域而在纳米压印光刻基材上形成复合聚合性涂层。将复合聚合性涂层与纳米压印光刻模板接触。使聚合引发剂活化，并且使复合聚合性涂层聚合以在纳米压印光刻基材上产生复合聚合物层、和预处理涂层的未固化部分。在使复合聚合性涂层聚合以产生复合聚合物层之后，使预处理涂层的未固化部分聚合。 | ||
| 搜索关键词： | 纳米 压印 光刻 中的 固化 基材 预处理 组合 | ||
【主权项】：
1.一种纳米压印光刻法，其特征在于，其包括：将预处理组合物配置在纳米压印光刻基材上以在所述纳米压印光刻基材上形成预处理涂层，其中所述预处理组合物包含聚合性组分；将压印抗蚀剂的离散部分配置在所述预处理涂层上，所述压印抗蚀剂的各离散部分覆盖所述纳米压印光刻基材的目标区域，其中所述压印抗蚀剂是聚合性组合物并且包含聚合引发剂；随着所述压印抗蚀剂的各离散部分展开超出所述目标区域而在所述纳米压印光刻基材上形成复合聚合性涂层，其中所述复合聚合性涂层包含所述预处理组合物和所述压印抗蚀剂的混合物；使所述复合聚合性涂层与纳米压印光刻模板接触；使所述聚合引发剂活化；使所述复合聚合性涂层聚合以在所述纳米压印光刻基材上产生复合聚合物层、和所述预处理涂层的未固化部分；和在使所述复合聚合性涂层聚合以产生复合聚合物层之后，使所述预处理涂层的未固化部分聚合。
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