[发明专利]电子无标签的DNA和基因组测序在审
| 申请号： | 201780022393.8 | 申请日： | 2017-02-09 |
| 公开（公告）号： | CN109155354A | 公开（公告）日： | 2019-01-04 |
| 发明（设计）人： | C·崔;陈成浩;P·W·莫拉;B·L·梅里曼 | 申请（专利权）人： | 罗斯韦尔生物技术股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L35/34 | 分类号： | H01L35/34 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 陶启长;钱文宇 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种制造能用于DNA或基因组测序的装置的方法，所述方法包括将电极对设置在基材上，每对内的电极由纳米间隙隔开；在所述电极上沉积抗蚀剂层；图案化所述抗蚀剂层以在各纳米间隙处或附近的各电极上产生暴露区域；使用各种方法使每个暴露区域内的电极表面粗糙化；并且将暴露区域暴露于生物分子，其中一个生物分子桥接各电极对的各纳米间隙，每个生物分子的各末端与各暴露区域处的电极结合。 | ||
| 搜索关键词： | 电极 暴露区域 纳米间隙 生物分子 基因组测序 沉积抗蚀剂 电极表面 抗蚀剂层 粗糙化 图案化 隔开 基材 桥接 标签 暴露 制造 | ||
【主权项】：
1.一种用于DNA或基因组测序的装置的制造方法，所述方法包括：将电极对设置在基材上，所述电极由纳米间隙隔开；在所述电极对上沉积抗蚀剂层；图案化所述抗蚀剂层以在纳米间隙处或附近的各电极上产生暴露区域；将所述电极暴露于等离子体蚀刻或金(Au)离子束注入，以使每个暴露区域内的表面粗糙化；和将所述暴露区域暴露于生物分子，其中所述生物分子至少具有第一和第二末端，各末端包含用于键合到所述电极对上的官能化，其中所述生物分子桥接所述纳米间隙，所述生物分子的第一和第二末端结合至所述暴露区域。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于罗斯韦尔生物技术股份有限公司，未经罗斯韦尔生物技术股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201780022393.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
