[发明专利]阻隔膜层叠体及其制造方法、波长转换片、背光单元、以及电致发光单元有效
| 申请号： | 201780023047.1 | 申请日： | 2017-04-07 |
| 公开（公告）号： | CN109070539B | 公开（公告）日： | 2021-10-15 |
| 发明（设计）人： | 正田亮;铃木文武;村田光司;黑川真登;大园剑吾 | 申请（专利权）人： | 凸版印刷株式会社 |
| 主分类号： | B32B9/00 | 分类号： | B32B9/00;B32B27/00;G02B5/20;G02F1/13357;H05B33/04;F21S2/00;F21Y115/10 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 常海涛;孙微 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种阻隔膜层叠体，具备：第一阻隔膜，其包含第一基材层和形成于第一基材层上的第一阻隔层；第二阻隔膜，其包含第二基材层和形成于第二基材层上的第二阻隔层；以及粘接层，其中，第一阻隔膜和第二阻隔膜经由粘接层以使得第一阻隔层与第二阻隔层相面对的方式进行贴合。在阻隔膜层叠体的一个面上，粘接层由含有环氧树脂、具有氨基的固化剂、以及具有环氧基的硅烷偶联剂或具有氨基及2个水解性官能团的硅烷偶联剂的粘结剂形成。 | ||
| 搜索关键词： | 阻隔 层叠 及其 制造 方法 波长 转换 背光 单元 以及 电致发光 | ||
【主权项】：
1.一种阻隔膜层叠体，具备：第一阻隔膜，其包含第一基材层和形成于所述第一基材层上的第一阻隔层；第二阻隔膜，其包含第二基材层和形成于所述第二基材层上的第二阻隔层；以及粘接层，所述第一阻隔膜和所述第二阻隔膜经由所述粘接层以使得所述第一阻隔层与所述第二阻隔层相面对的方式进行贴合，所述第一阻隔层包含第一无机薄膜层和第一阻气性被覆层，所述第二阻隔层包含第二无机薄膜层和第二阻气性被覆层，所述粘接层由粘结剂形成，该粘结剂含有环氧树脂、具有氨基的固化剂、以及具有环氧基的硅烷偶联剂或具有氨基及2个水解性官能团的硅烷偶联剂。
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