[发明专利]光学膜的制造方法有效

专利信息
申请号: 201780023378.5 申请日: 2017-04-24
公开(公告)号: CN109073811B 公开(公告)日: 2021-03-05
发明(设计)人: 三浦拓也 申请(专利权)人: 日本瑞翁株式会社
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30;G02B5/00;B23K26/18;B23K26/402;B23K26/364;B23K26/0622
代理公司: 北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙) 11413 代理人: 邵秋雨;赵曦
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种光学膜的制造方法,包含对具有树脂层和设置于上述树脂层的单面的激光吸收层的层叠体照射激光光线从而切断上述树脂层的切断工序,上述激光吸收层在9μm以上且11μm以下的波长区域的光的平均吸收率AA大于上述树脂层在9μm以上且11μm以下的波长区域的光的平均吸收率AR,上述激光吸收层的厚度TA与上述树脂层的厚度TR的比率TA/TR为0.8以上。
搜索关键词: 光学 制造 方法
【主权项】:
1.一种光学膜的制造方法,包含切断工序,对具有树脂层和设置于所述树脂层的单面的激光吸收层的层叠体照射激光光线,切断所述树脂层,所述激光吸收层在9μm以上且11μm以下的波长区域的光的平均吸收率AA大于所述树脂层在9μm以上且11μm以下的波长区域的光的平均吸收率AR,所述激光吸收层的厚度TA与所述树脂层的厚度TR的比率TA/TR为0.8以上。
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