[发明专利]簇离子束生成方法和使用该方法的簇离子束照射方法在审

专利信息
申请号: 201780023782.2 申请日: 2017-06-29
公开(公告)号: CN109154072A 公开(公告)日: 2019-01-04
发明(设计)人: 广濑谅 申请(专利权)人: 胜高股份有限公司
主分类号: C23C14/32 分类号: C23C14/32;H01L21/20;H01L21/265;H01L21/322
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 童春媛;杨戬
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种能够比以往增大簇离子束的束电流值的簇离子束生成方法。本发明的簇离子束生成方法是由烃系化合物原料生成构成元素中含有碳及氢的簇离子束,所述簇离子束生成方法的特征在于,所述烃系化合物原料包含具备侧链的分支链饱和烃,所述分支链饱和烃仅通过叔碳原子而分支。
搜索关键词: 簇离子 烃系化合物 饱和烃 分支链 构成元素 叔碳原子 束电流 侧链 照射
【主权项】:
1.一种簇离子束生成方法,其由烃系化合物原料生成构成元素中含有碳及氢的簇离子的射束,所述簇离子束生成方法的特征在于,所述烃系化合物原料包含具备侧链的分支链饱和烃,所述分支链饱和烃仅通过叔碳原子而分支。
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