[发明专利]复合退火以及选择性沈积系统在审
申请号: | 201780023970.5 | 申请日: | 2017-04-07 |
公开(公告)号: | CN109072428A | 公开(公告)日: | 2018-12-21 |
发明(设计)人: | J·W·梅斯;W·克纳平 | 申请(专利权)人: | ASMIP控股有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;C23C16/458;H01L21/02 |
代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 | 代理人: | 王永伟;赵蓉民 |
地址: | 荷兰,*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | 揭露一种使用退火步骤及沈积步骤来形成膜的系统及方法。所述系统执行用于在聚合物内诱发自组装或对齐的退火步骤。所述系统亦执行选择性沈积步骤以在聚合物上达成选择性沈积。 | ||
搜索关键词: | 退火 聚合物 系统执行 对齐 自组装 诱发 复合 | ||
【主权项】:
1.一种用以选择性地形成膜的系统,包括:第一批量反应室,所述第一批量反应室用以容纳具有至少一个聚合物层的至少一个衬底;加热组件,用以对所述至少一个衬底执行退火步骤;以及气体前体递送系统,所述气体前体递送系统用以藉由将第一前体及第二前体依序地脉冲至所述至少一个衬底上来执行膜沈积,所述膜沈积用以达成至少所述第一前体向所述至少一个聚合物层中的渗透;其中膜或材料形成于所述至少一个聚合物层上;以及其中所述退火步骤及所述膜沈积是在不暴露至周围空气的情况下进行。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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