[发明专利]用于移除和/或避免带电粒子束系统中污染的方法和系统有效

专利信息
申请号: 201780024598.X 申请日: 2017-04-21
公开(公告)号: CN109075004B 公开(公告)日: 2021-10-26
发明(设计)人: M·斯米茨;J·J·科宁;C·F·J·洛德韦克;H·W·穆克;L·阿塔尔德 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司
主分类号: H01J37/317 分类号: H01J37/317;H01J37/02
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 王茂华
地址: 荷兰维*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 公开了一种带电粒子束系统,其包括:带电粒子束发生器,其用于产生带电粒子的射束;带电粒子光学列,其布置在真空腔中,带电粒子光学列被布置成将带电粒子的射束投射到目标上,带电粒子光学列包括影响带电粒子的射束的带电粒子光学元件;提供清洁剂的源;导管,其连接到源并且布置成将清洁剂朝向带电粒子光学元件引入;其中带电粒子光学元件包括:带电粒子传输孔,其用于传输和/或影响带电粒子的射束;以及至少一个通气孔,其在带电粒子光学元件的第一侧和第二侧之间提供流动路径;其中通气孔的横截面大于带电粒子传输孔的横截面。此外,公开了一种用于防止或移除带电粒子传输孔中污染的方法,其包括在射束发生器运行时引入清洁剂的步骤。
搜索关键词: 用于 避免 带电 粒子束 系统 污染 方法
【主权项】:
1.一种用于防止或移除带电粒子传输孔的污染的方法,带电粒子传输孔布置在真空腔中的带电粒子束系统中,带电粒子束系统包括用于将带电粒子的射束投射到目标上的带电粒子光学列,所述带电粒子光学列包括用于影响带电粒子的射束的带电粒子光学元件;所述带电粒子光学元件包括用于传输和/或影响所述带电粒子的射束的所述带电粒子传输孔、以及提供从所述带电粒子光学元件的第一侧到第二侧的流动路径的通气孔;所述方法包括以下步骤:‑在带电粒子的射束存在于所述带电粒子光学元件处或附近的情况下,将清洁剂引向所述带电粒子光学元件;以及‑在所述真空腔中保持真空,其中保持真空的步骤包括,使得物质能够至少经由所述通气孔而穿过所述带电粒子光学元件,以流动或移动到连接到所述真空腔的真空泵。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML荷兰有限公司,未经ASML荷兰有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201780024598.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top