[发明专利]抗蚀剂下层膜形成用组合物、光刻用下层膜、及图案形成方法在审
| 申请号： | 201780026209.7 | 申请日： | 2017-04-28 |
| 公开（公告）号： | CN109154777A | 公开（公告）日： | 2019-01-04 |
| 发明（设计）人： | 樋田匠;牧野嶋高史;佐藤隆;越后雅敏 | 申请（专利权）人： | 三菱瓦斯化学株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/11 | 分类号： | G03F7/11;C08G8/04;G03F7/26;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 包含含有碲的化合物或含有碲的树脂的抗蚀剂下层膜形成用组合物。 | ||
| 搜索关键词： | 抗蚀剂下层膜 形成用组合物 图案形成 下层膜 树脂 光刻 | ||
【主权项】：
1.一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含含有碲的化合物或含有碲的树脂。
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