[发明专利]致密的二氧化硅质膜形成用组合物

摘要

[目的]提供一种含聚硅氮烷的覆膜形成用组合物。为了形成具有加工性且致密的二氧化硅质膜，对该组合物进行基于二阶段转化的加工，所述二阶段转化包括：通过将聚硅氮烷组合物在朝向二氧化硅质物质的转化不充分的状态下形成表面干燥了的膜；然后接受二次加工。[手段]本发明提供一种含聚硅氮烷的覆膜形成用组合物，其包含特定的胺类化合物、聚硅氮烷化合物以及溶剂，本发明还提供一种二氧化硅质物质的形成方法，其中，将该组合物涂布于基材上，转化为二氧化硅质物质。该特定的胺类化合物具有二个胺基，在胺基中具有至少1个由苯基取代了的烃基。

主权项

1.一种组合物，其包含由以下的通式(I)表示的胺类化合物、聚硅氮烷化合物、以及溶剂，式中，RA各自独立地表示氢或者C1～C10的、非取代的或者取代了的烃基，条件是至少1个RA是由苯基取代了的C1～C3的烃基，RB各自独立地表示氢或者C1～C10的烃基、环状烃基、或者不饱和烃基，条件是两个RB不同时为氢，p1以及p2各自独立地是0～3的整数，p3是1～3的整数。