[发明专利]具有余度控制及ETHERCAT接口的电镀电源

摘要

一种控制用于电镀半导体基板的设备的操作的系统，包含在高操作模式与低操作模式中进行操作，在高操作模式中现有的电源供应器提供直接用于产生通道控制信号的电流或电压，且在低操作模式中现有的电源供应器对提供电流或电压以产生通道控制信号的电路进行偏压。

主权项

1.一种控制电镀设备的操作的方法，该方法包含以下步骤：从目标电镀工艺产生目标输出电控制信号值与对应持续期间的输出电控制信号时间表；操作交流转直流电源块以根据所述输出控制时间表在至少两个模式中产生直流电压，其中在高操作模式中，所述交流转直流电源块直接提供所述输出电控制信号至电镀通道；以及在低操作模式中，所述交流转直流电源块提供余度电压信号以偏压低范围控制器晶体管级，且其中所述低范围控制晶体管作为后调节器，以控制至所述电镀通道的所述输出电控制信号；以及调整所述余度电压，以在从所述低操作模式转换至所述高操作模式期间内控制所述输出电控制信号中的突发变异，并最小化在所述低范围控制晶体管中的电力消耗。