[发明专利]利用固定多源X射线系统进行经解剖结构调整的采集有效
| 申请号： | 201780028440.X | 申请日： | 2017-05-08 |
| 公开（公告）号： | CN109152561B | 公开（公告）日： | 2023-04-04 |
| 发明（设计）人： | D·谢弗;M·格拉斯 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦有限公司 |
| 主分类号： | A61B6/00 | 分类号： | A61B6/00;A61B6/12 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 孟杰雄;王英 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
一种用于控制多焦点X射线成像器(IA)的操作的系统(SC)。所述系统包括投影方向确定器(PDD)，所述投影方向确定器被配置为基于待成像的目标(OB)的模型m(OB)的几何结构来确定所述目标(OB)的投影方向。所述系统的选择器(SX)被配置为从所述成像器(IA)的多个具有不同的光轴(OX |
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| 搜索关键词： | 利用 固定 射线 系统 进行 解剖 结构调整 采集 | ||
【主权项】：
1.一种成像装置(IMA)，包括：非旋转型的多焦点X射线成像器(IA)，其具有探测器(D)和定义多个焦点的X射线源单元(XU)，所述源单元被配置为使得所述焦点与所述探测器(D)一起定义具有不同的光轴(OXj)的成像对(IPj)，投影方向确定器(PDD)，其被配置为基于针对待成像的目标(OB)的模型m(OB)的几何结构来确定针对所述目标(OB)的投影方向；以及选择器(SX)，其被配置为从多个成像对(IPj)中选择至少一个目标对，所述至少一个目标对的光轴在所确定的投影方向的角度裕量Δα内。
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