[发明专利]司钻控制站在审

专利信息
申请号: 201780028499.9 申请日: 2017-05-01
公开(公告)号: CN109072689A 公开(公告)日: 2018-12-21
发明(设计)人: J.R.贝里;R.梅茨 申请(专利权)人: 斯伦贝谢技术有限公司
主分类号: E21B41/00 分类号: E21B41/00;E21B15/00
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 卢亚静
地址: 荷兰*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要: 一种用于监测和控制钻机上的子系统的工作站系统,所述系统包括:第一工作站凹室和第二工作站凹室,其定位在钻机台附近,以便在操作者坐在或站在所述凹室中时为所述操作者提供直接视线以控制钻机子系统,其中所述第一工作站凹室和第二工作站凹室中的每一个包括:操作者椅;用于控制所述至少一个第一钻机子系统的多个控制装置;所述至少一个第一钻机子系统的图形表示的至少一个显示器。
搜索关键词: 凹室 钻机 工作站 工作站系统 监测和控制 控制装置 司钻控制 图形表示 直接视线 显示器
【主权项】:
1.一种用于监测和控制钻机上的子系统的工作站系统,所述系统包括:第一工作站凹室,其位于钻机台附近以便在操作者坐在或站在所述凹室中时为所述操作者提供对于被所述第一工作站控制的至少一个第一钻机子系统直接视线,所述第一工作站凹室包括:操作者椅;多个控制装置,其用于控制所述至少一个第一钻机子系统;所述至少一个第一钻机子系统的图形表示的至少一个显示器;以及第二工作站凹室,其位于钻机台附近以便在操作者坐在或站在所述凹室中时为所述操作者提供对于被所述第二工作站控制的至少一个第二钻机子系统直接视线,所述第二工作站凹室包括:操作者椅;多个控制装置,其用于控制所述至少一个第二钻机子系统;所述至少一个第二钻机子系统的图形表示的至少一个显示器,其中所述第一工作站凹室被定位在所述第二工作站凹室的前面,并且所述第二工作站凹室被定位成高于所述第一工作站凹室。
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