[发明专利]双轴磁通栅装置有效

专利信息
申请号: 201780028531.3 申请日: 2017-05-11
公开(公告)号: CN109196367B 公开(公告)日: 2021-03-16
发明(设计)人: 李德远;W·D·佛兰茨;R·A·杰克逊;A·M·加布雷希 申请(专利权)人: 德州仪器公司
主分类号: G01R33/09 分类号: G01R33/09
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 林斯凯
地址: 美国德*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 在所描述实例中,磁通栅装置(100)包含第一磁芯(112、114)及第二磁芯(152、154)。所述第一磁芯(112、114)具有从第一传感方向(120)偏离大于0度且小于90度的第一磁化方向(116、118)。所述第二磁芯(152、154)布置为正交于所述第一磁芯(112、114)。所述第二磁芯(152、154)具有从第二传感方向(160)偏离大于0度且小于90度的第二磁化方向(156、158)。
搜索关键词: 双轴磁通栅 装置
【主权项】:
1.一种集成电路,其包括:半导体衬底;磁通栅装置,其形成于所述半导体衬底上方,所述磁通栅装置具有:第一磁芯,其具有从第一传感方向偏离大于0度且小于90度的第一磁化方向;第一传感线圈,其包含卷绕在所述第一磁芯周围的第一线圈部件,所述第一传感线圈限定垂直于所述第一线圈部件的所述第一传感方向;第二磁芯,其布置为正交于所述第一磁芯,所述第二磁芯具有从第二传感方向偏离大于0度且小于90度的第二磁化方向;以及第二传感线圈,其包含卷绕在所述第二磁芯周围的第二线圈部件,所述第二传感线圈限定垂直于所述第二线圈部件的所述第二传感方向;以及传感电路,其具有部分地形成于所述半导体衬底中且在所述磁通栅装置下方的晶体管,所述传感电路耦合到所述第一传感线圈及所述第二传感线圈。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于德州仪器公司,未经德州仪器公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201780028531.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top