[发明专利]用于制造二维材料的化学气相沉积方法有效
| 申请号： | 201780029370.X | 申请日： | 2017-05-12 |
| 公开（公告）号： | CN109154079B | 公开（公告）日： | 2021-11-26 |
| 发明（设计）人： | 奈杰尔·皮克特;翁布雷塔·马萨拉;尼基·普拉布达斯·萨佛珍妮 | 申请（专利权）人： | 纳米技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/30 | 分类号： | C23C16/30;B82Y40/00;C01B19/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 李新红 |
| 地址： | 英国曼*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
合成二维金属硫属化物单层(如WSe |
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| 搜索关键词： | 用于 制造 二维 材料 化学 沉积 方法 | ||
【主权项】：
1.一种合成金属硫属化物纳米片的方法，所述方法包括：使气态硒前体与金属前体反应。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
