[发明专利]化学放大型负性光致抗蚀剂组合物有效
| 申请号： | 201780029609.3 | 申请日： | 2017-04-26 |
| 公开（公告）号： | CN109154776B | 公开（公告）日： | 2022-06-28 |
| 发明（设计）人： | 李昇勋;李昇炫;李秀珍;崔映喆 | 申请（专利权）人： | 荣昌化学制品株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/038 | 分类号： | G03F7/038;G03F7/004 |
| 代理公司： | 北京青松知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11384 | 代理人： | 郑青松 |
| 地址： | 韩国庆*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及化学放大型负性光致抗蚀剂组合物，更详细地说，公开了包含特定有机酸添加物，因此相比于现有的负性光致抗蚀剂改善短波长曝光光源中的工艺裕度，适合应用于半导体工艺的化学放大型负性光致抗蚀剂组合物。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 大型 负性光致抗蚀剂 组合 | ||
【主权项】：
1.一种化学放大型负性光致抗蚀剂组合物，其特征在于，包含：将由以下化学式1至4表示的化合物中选择的至少一种的有机酸添加物，以组合物总重量的0.1至1重量％：化学式1![]()
化学式2![]()
化学式3![]()
化学式4![]()
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