[发明专利]用于在真空涂布工艺中处理若干掩模的方法、用于通过在基板上沉积数个不同材料层来处理基板的方法和用于涂布基板的设备有效
| 申请号： | 201780029724.0 | 申请日： | 2017-08-17 |
| 公开（公告）号： | CN109673158B | 公开（公告）日： | 2021-04-02 |
| 发明（设计）人： | 塞巴斯蒂安·巩特尔·臧;安德烈亚斯·索尔 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56;C23C14/12;C23C14/04;C23C16/04 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种用于在真空涂布工艺中处理若干掩模的方法。每个掩模被配置为在涂布工艺中使用预定涂布应用时间。方法包括：提供若干匣盒，每个匣盒具有若干掩模狭槽；和根据每个掩模的涂布应用时间，将所述若干掩模分类成至少两个群集群组。方法进一步包括：将所述至少两个群集群组分配到所述若干匣盒中的一个或多个；和根据分配，将所述若干掩模存储在所述若干匣盒中。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 真空 工艺 处理 若干 方法 通过 基板上 沉积 不同 材料 涂布基板 设备 | ||
【主权项】：
1.一种用于在真空涂布工艺中处理若干掩模的方法，每个掩模被配置为于涂布工艺中使用涂布应用时间，所述方法包括：a.提供若干匣盒(M1,M2,M3)，每个匣盒具有若干掩模狭槽(301)；b.根据每个掩模的所述涂布应用时间，将所述若干掩模分类成至少两个群集群组(302)；c.将所述至少两个群集群组的每个分配到所述若干匣盒的一个或多个(303)；和d.将所述若干掩模存储在相应地分配的若干匣盒中(304)。
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