[发明专利]调光装置在审

专利信息
申请号: 201780029754.1 申请日: 2017-04-27
公开(公告)号: CN109154759A 公开(公告)日: 2019-01-04
发明(设计)人: 伊藤伸之;佐藤英次 申请(专利权)人: 夏普株式会社
主分类号: G02F1/167 分类号: G02F1/167;G02F1/19
代理公司: 深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司 44334 代理人: 汪飞亚;习冬梅
地址: 日本国大*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 利用较以往多种的动作模式对光的透过率进行调节。在调光装置(100)中,在施加了具有第一振幅以上的振幅的第一频率的交流电压的情况下,第一波长范围内的光(L1)的透过率比将薄片(10A)取向为遮蔽该光(L1)的方向的情况高,在施加了具有第二振幅以上的振幅的第二频率的交流电压的情况下,第二波长范围内的光(L2)的透过率比将薄片(10B)取向为遮蔽该光(L2)的方向的情况高。其中,第二振幅为第一振幅以上。
搜索关键词: 透过率 调光装置 交流电压 波长 遮蔽 取向 施加 动作模式
【主权项】:
1.一种调光装置,其通过对调光部件的取向进行控制而对光的透过率进行调节,其特征在于,包括:第一调光部件,其根据取向状态的变化,对第一波长范围内的所述光的透过率进行变更;以及第二调光部件,其根据取向状态的变化,对第二波长范围内的所述光的透过率进行变更,在施加了具有第一振幅以上的振幅的第一频率的交流电压的情况下,所述第一波长范围内的所述光的透过率比将所述第一调光部件取向为遮蔽该光的方向的情况高,在施加了具有第二振幅以上的振幅的第二频率的交流电压的情况下,所述第二波长范围内的所述光的透过率比将所述第二调光部件取向为遮蔽该光的方向的情况高,所述第二振幅为所述第一振幅以上。
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