[发明专利]用于抑制激光维持等离子体源的VUV辐射发射的系统及方法在审
| 申请号： | 201780029807.X | 申请日： | 2017-05-19 |
| 公开（公告）号： | CN109315058A | 公开（公告）日： | 2019-02-05 |
| 发明（设计）人： | I·贝泽尔;K·P·格罗斯;L·威尔逊;R·亚达夫;J·维滕贝格;A·布伊扬;A·谢梅利宁;A·希梅尔吉;R·索拉兹 | 申请（专利权）人： | 科磊股份有限公司 |
| 主分类号： | H05G2/00 | 分类号： | H05G2/00;H01J65/04 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 张世俊 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明揭示一种用于形成激光维持等离子体的系统，其包含：气体围阻元件；照明源，其经配置以产生泵激照明；及集光器元件，其经配置以将来自于泵激源的泵激照明聚焦于气体混合物的体积中以在气体混合物的体积内产生发射宽带辐射的等离子体。所述气体围阻元件可经配置以围阻包含第一气体组分及第二气体组分的气体混合物的体积。所述第二气体组分抑制离开所述气体混合物的辐射的光谱中所述宽带辐射的与所述第一气体组分相关联的一部分或与所述第一气体组分相关联的一或多个准分子的辐射中的至少一者。 | ||
| 搜索关键词： | 气体混合物 等离子体 宽带辐射 泵激 配置 激光 关联 等离子体源 集光器元件 发射 辐射 泵激源 照明源 准分子 光谱 聚焦 | ||
【主权项】：
1.一种用于形成激光维持等离子体的系统，其包括：气体围阻元件，其中所述气体围阻元件经配置以围阻气体混合物的体积，其中所述气体混合物包含第一气体组分及第二气体组分；照明源，其经配置以产生泵激照明；及集光器元件，其经配置以将来自于泵激源的所述泵激照明聚焦于所述气体混合物的所述体积中以在所述气体混合物的所述体积内产生等离子体，其中所述等离子体发射宽带辐射，其中所述第二气体组分抑制离开所述气体混合物的辐射的光谱中所述宽带辐射的与所述第一气体组分相关联的一部分或与所述第一气体组分相关联的一或多个准分子的辐射中的至少一者。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于科磊股份有限公司，未经科磊股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201780029807.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：车辆带电电荷减少装置
- 下一篇：用于提供用于等离子弧切割的功率的系统和方法
