[发明专利]成分组成计测系统及成分组成计测方法有效

专利信息
申请号: 201780030052.5 申请日: 2017-05-15
公开(公告)号: CN109154567B 公开(公告)日: 2021-06-01
发明(设计)人: 出口祥啓;修芳仲 申请(专利权)人: 国立大学法人德岛大学
主分类号: G01N21/63 分类号: G01N21/63;G01N21/71
代理公司: 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 代理人: 林军;姚开丽
地址: 日本德岛县德*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 成分组成计测系统具备:对计测对象照射具有产生等离子体程度的强度的第一激光(L1)的第一激光光源、对计测对象照射具有不产生等离子体程度的强度的第二激光(L2)的第二激光光源、根据对计测对象照射第一激光而产生的等离子体的发光来测定表示各波长的强度的发光光谱的光谱测定装置、使用所测定的发光光谱的数据分析计测对象的组成的控制装置。第二激光光源在第一激光(L1)的照射开始前,开始照射第二激光(L2),在第一激光(L1)的照射结束后,结束照射第二激光(L2)。
搜索关键词: 成分 组成 系统 方法
【主权项】:
1.一种成分组成计测系统,其特征在于,具备:第一激光光源,对计测对象照射第一激光,所述第一激光具有产生等离子体程度的强度;第二激光光源,对所述计测对象照射第二激光,所述第二激光具有不产生等离子体程度的强度;光谱测定装置,根据由所述第一激光光源对所述计测对象照射第一激光而产生的等离子体的发光,测定表示各波长的强度的发光光谱;和控制装置,使用所测定的发光光谱的数据,分析所述计测对象的组成,所述第二激光光源在所述第一激光的照射开始前,开始照射所述第二激光,在所述第一激光的照射结束后,结束照射所述第二激光。
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