[发明专利]电解镍(合金)镀覆液有效
申请号: | 201780030115.7 | 申请日: | 2017-05-11 |
公开(公告)号: | CN109154093B | 公开(公告)日: | 2020-11-27 |
发明(设计)人: | 柴田和也;大平原祐树 | 申请(专利权)人: | 日本高纯度化学株式会社 |
主分类号: | C25D3/12 | 分类号: | C25D3/12 |
代理公司: | 北京戈程知识产权代理有限公司 11314 | 代理人: | 程伟 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明的课题在于提供一种电解镍(合金)镀覆液、使用该电解镍(合金)镀覆液的镍或镍合金镀覆充填方法、以及微小三维结构体的制造方法,其中,该电解镍(合金)镀覆液,在以镍或镍合金(18)充填电子电路零件内的微小孔洞或微小凹部(14)时,能以不会产生孔洞或缝隙等缺陷的方式来进行充填。并且,本发明通过使用含有特定的N取代羰基吡啶鎓化合物的电解镍(合金)镀覆液,来充填微小孔洞或微小凹部(14),而解决上述课题。 | ||
搜索关键词: | 电解 合金 镀覆 | ||
【主权项】:
1.一种电解镍镀覆液或电解镍合金镀覆液,含有:镍盐、pH缓冲剂、以及下述通式(A)所表示的N取代羰基吡啶鎓化合物;
通式(A)中,m为0或1;‑R1为‑R1a或‑NR1bR1c,R1a为碳数1至6的烷基,R1b为氢原子或碳数1至6的烷基,R1c为氢原子、碳数1至6的烷基、或氨基(‑NH2);‑R2为氢原子或碳数1至6的烃基;X‑为任意的阴离子。
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