[发明专利]升华气体供应系统和升华气体供应方法在审
申请号: | 201780030452.6 | 申请日: | 2017-04-13 |
公开(公告)号: | CN109154082A | 公开(公告)日: | 2019-01-04 |
发明(设计)人: | 紫垣千佳;石冢清香;小浦辉政;野泽史和 | 申请(专利权)人: | 乔治洛德方法研究和开发液化空气有限公司 |
主分类号: | C23C16/448 | 分类号: | C23C16/448;C23C16/52 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 马爽;臧建明 |
地址: | 法国*** | 国省代码: | 法国;FR |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 提供一种升华气体供应系统,该系统能够稳定待供应的固体材料的升华气体的浓度并且连续供应具有稳定浓度的升华气体。该升华气体供应系统包括容器;用于加热该容器的加热器;真空容器,其被配置为使得当用容器压力计测量的压力是该升华气体的饱和蒸气压时,将升华气体在真空状态下从该容器引入;流量控制单元,用于控制该稀释气体的流量,使得当将该升华气体引入该真空容器中时,基于该真空容器内的压力将该真空容器内的稀释气体中的升华气体的浓度控制为规定浓度;以及引出管线,用于当该稀释气体中的升华气体的浓度达到该规定浓度时,将该升华气体从该真空容器引出到该后处理中。 | ||
搜索关键词: | 升华 真空容器 气体供应系统 稀释气体 流量控制单元 加热器 饱和蒸气压 压力计测量 后处理 固体材料 连续供应 浓度控制 气体供应 真空状态 引入 加热 配置 | ||
【主权项】:
1.一种用于将由固体材料产生的升华气体供应到后处理的升华气体供应系统,该系统包括:‑储存固体材料的容器;‑容器加热单元,其加热该容器,使得产生该固体材料的升华气体;‑容器压力计,其测量该容器内的压力;‑真空容器,其被配置为使得当用该容器压力计测量的压力是该升华气体的饱和蒸气压时,将该升华气体在该升华气体的压力处于规定的负压范围内的状态下从该容器引入;‑稀释气体管线,其将稀释气体引入该真空容器中;‑压力计,其测量该真空容器内的压力;‑流量控制单元,其控制该稀释气体的流量,使得当将该升华气体引入该真空容器中时,基于该真空容器内的压力将该真空容器内的稀释气体中的升华气体的浓度控制为规定浓度;‑引出管线,当该稀释气体中的升华气体的浓度达到该规定浓度时,该引出管线将该升华气体从该真空容器引出到该后处理中;和‑真空泵,其使该真空容器处于真空状态。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于乔治洛德方法研究和开发液化空气有限公司,未经乔治洛德方法研究和开发液化空气有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201780030452.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:透明高屏蔽膜、以及使用了它的高屏蔽层叠体
- 下一篇:薄膜形成装置用基板托盘
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的