[发明专利]薄层沉积过程在审
| 申请号： | 201780032099.5 | 申请日： | 2017-05-22 |
| 公开（公告）号： | CN109154078A | 公开（公告）日： | 2019-01-04 |
| 发明（设计）人： | N.瓦纳库勒;C.马涅;C.博托瓦 | 申请（专利权）人： | 法国圣戈班玻璃厂 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56;C23C14/58;C23C14/18;C03C17/00;C03C17/245;C23C14/02;G02B27/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 段家荣;黄念 |
| 地址： | 法国*** | 国省代码： | 法国;FR |
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| 摘要： | 本发明涉及一种获得包含涂覆有光催化涂层的基材的材料的方法，所述方法包括通过溅射在所述基材上沉积叠薄层叠层的步骤，其依次包括第一钛金属层，厚度为1至3nm，至少部分氧化的钛的中间层，厚度为0.5至5nm，和第二钛金属层，厚度为2至5nm；借助于通过激光辐射的热处理氧化步骤，其中该叠层与氧化气氛接触。 | ||
| 搜索关键词： | 钛金属层 基材 沉积 光催化涂层 热处理 薄层叠层 激光辐射 氧化步骤 氧化气氛 中间层 薄层 叠层 溅射 涂覆 | ||
【主权项】：
1.获得材料的方法，所述材料包含涂覆有光催化涂层的基材，所述方法包括：‑ 通过溅射在所述基材上沉积薄层叠层的步骤，其依次包括厚度为1至3nm的第一钛金属层，厚度为0.5至5nm的至少部分氧化的钛的中间层，和厚度为2至5nm的第二钛金属层；和‑ 借助于通过激光辐射的热处理氧化的步骤，其中所述叠层与氧化气氛接触。
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