[发明专利]用于真空腔室内处理基板的设备和系统、及用于使基板载体相对于掩模载体对准的方法在审
| 申请号： | 201780032189.4 | 申请日： | 2017-07-24 |
| 公开（公告）号： | CN109563610A | 公开（公告）日： | 2019-04-02 |
| 发明（设计）人： | 马蒂亚斯·赫曼尼斯 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/50;C23C14/56;C23C16/04;C23C16/44;C23C16/458;H01L21/68;H01L51/00 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 描述一种用于在真空腔室(101)内处理基板(10)的设备(100)。所述设备包括对准系统(20)和屏蔽装置(105)。对准系统(20)包括第一装配件(21)、第二装配件(22)和对准单元(25)，第一装配件(21)用于使基板载体(11)安装至所述对准系统、第二装配件(22)用于使掩模载体(13)安装至所述对准系统，对准单元(25)用于使对准系统(20)的第一装配件(21)和第二装配件(22)相对于彼此移动。进一步地，对准系统(20)与屏蔽装置(105)于第一方向(Z)为相对于彼此可移动的。进一步地，提供一种用于处理基板的系统，以及提供一种使基板载体相对于掩模载体对准的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 对准系统 装配件 处理基板 基板载体 掩模 对准单元 屏蔽装置 对准 设备和系统 方法描述 真空腔室 可移动 真空腔 室内 移动 | ||
【主权项】：
1.一种用于在真空腔室(101)内处理基板(10)的设备(100)，所述设备(100)包括：对准系统(20)，所述对准系统(20)包括第一装配件(21)、第二装配件(22)和对准单元(25)，所述第一装配件(21)用于使基板载体(11)安装至所述对准系统，所述第二装配件(22)用于使掩模载体(13)安装至所述对准系统，所述对准单元(25)用于使所述第一装配件(21)和所述第二装配件(22)相对于彼此移动；和屏蔽装置(105)，所述对准系统(20)和所述屏蔽装置(105)于第一方向(Z)为相对于彼此可移动的。
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