[发明专利]光刻设备中的光学元件的位置测量有效
| 申请号： | 201780032606.5 | 申请日： | 2017-05-24 |
| 公开（公告）号： | CN109154783B | 公开（公告）日： | 2021-12-07 |
| 发明（设计）人： | E.洛普斯特拉;E.A.F.范德帕施;S.布雷迪斯特尔;S.科西恩 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 王蕊瑞 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 根据本发明的实施例，提供一种光刻设备，其包括投射系统(PS)，该投射系统(PS)包括多个光学元件(505‑535；605‑640)，该多个光学元件(505‑535；605‑640)配置为将辐射束(B，26)投射到辐射敏感基板(W)上。光刻设备还包括计量框架结构(500；600)，其包括一个或多个光学元件测量系统的部件(540‑570；660‑695)以测量光学元件(505‑535；605‑640)中的至少一个的位置和/或取向。多个光学元件(505‑535；605‑640)、图案化装置台(MT)和基板台(WT)布置使得在投射系统(PS)上的二维视图中，矩形(ORE)限定为包封多个光学元件(505‑535；605‑640)、图案化装置台(MT)和基板台(WT)。矩形(ORE)还限定为尽可能小，其中计量框架结构(500；600)定位在矩形(ORE)内。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 中的 光学 元件 位置 测量 | ||
【主权项】：
1.一种光刻设备，包括投射系统(PS)，所述投射系统(PS)包括多个光学元件(505‑535；605‑640)，所述多个光学元件(505‑535；605‑640)配置为将辐射束(B，26)投射到辐射敏感基板(W)上；以及计量框架结构(500；600)，所述计量框架结构(500；600)包括测量所述光学元件(505‑535；605‑640)中的至少一个的位置和/或取向的一个或多个光学元件测量系统的部件(540‑570；660‑695)，其中所述多个光学元件(505‑535；605‑640)、图案化装置台(MT)和基板台(WT)布置为使得在所述投射系统(PS)上的二维视图中，矩形(ORE)限定为包封所述多个光学元件(505‑535；605‑640)、所述图案化装置台(MT)和所述基板台(WT)，所述矩形(ORE)还限定为尽可能小，其中所述计量框架结构(500；600)定位在所述矩形(ORE)内。
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