[发明专利]用于4-D高光谱成像的系统和方法有效

专利信息
申请号: 201780032763.6 申请日: 2017-05-27
公开(公告)号: CN109196333B 公开(公告)日: 2020-12-18
发明(设计)人: C.桑托里;S.辛哈;C-H.吴;J.西格比;S.A.李 申请(专利权)人: 威里利生命科学有限责任公司
主分类号: G01N21/64 分类号: G01N21/64;G02B21/00;G02B21/16;G01J3/44;G01J3/18;G01J3/28
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 邵亚丽
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 描述了用于高光谱成像的系统和方法。高光谱成像系统(300)包括:样本架(370),被配置为保持样本;光源(3010),被配置为发射具有一个或多个波长的激发光(402);二维成像器件(380);以及光学系统。该光学系统包括:第一空间光调制器(320a);第一色散元件(340a);以及第二色散元件(340b)。其中该光学系统被配置为:(i)使用第一空间光调制器(320a)将激发光(402)构造成在样本中的焦平面的共轭平面处的预定二维激发图案;(ii)使用第一色散元件(340a)光谱色散激发光(404);(iii)使用激发图案(406)照射样本,在焦平面内用沿着第一横向方向色散的具有一个或多个波长的激发图案(406)来照射样本;(iv)从样本收集发射光(408);(v)使用第二色散元件(340b)光谱色散所收集的发射光(408);以及(vi)将所收集的发射光(410)聚焦提供给成像器件(380),使得光谱色散的发射光(410)沿着第二横向方向光谱色散。
搜索关键词: 用于 光谱 成像 系统 方法
【主权项】:
1.一种高光谱成像系统,包括:样本架,被配置为保持样本;光源,被配置为发射具有一个或多个波长的激发光;二维(2‑D)成像器件;和光学系统,包括:第一空间光调制器(SLM);第一色散元件;和第二色散元件;其中所述光学系统被配置为(i)使用所述第一SLM将所述激发光构造成在所述样品中的焦平面的共轭平面处的预定二维激发图案;(ii)使用所述第一色散元件光谱色散所述激发光;(iii)使用激发图案照射所述样本,在所述焦平面内用沿着第一横向方向色散的具有一个或多个波长的激发图案照射所述样本;(iv)从所述样本收集发射光;(v)使用所述第二色散元件光谱色散所收集的发射光;以及(vi)将所收集的发射光聚焦提供给所述成像器件,使得所述光谱色散的发射光沿着第二横向方向光谱色散。
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