[发明专利]用于校准用于生产三维工件的设备的照射系统的装置和方法有效

专利信息
申请号: 201780034113.5 申请日: 2017-02-22
公开(公告)号: CN109219512B 公开(公告)日: 2021-01-08
发明(设计)人: 卢卡斯·勒斯根;简·威尔克斯 申请(专利权)人: SLM方案集团股份公司
主分类号: B29C64/153 分类号: B29C64/153;B29C64/264;G05B19/401;B22F3/105;B33Y30/00
代理公司: 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 代理人: 浦彩华;姚开丽
地址: 德国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种用于校准用于生产三维工件的设备(10)的照射系统(18)的装置(48),包括控制单元(50),适于控制照射系统(18),以便根据校准图案将辐射束(22;22a、22b)照射到照射平面(52)上。装置(48)还包括传感器布置(56),适于布置在照射平面(52)中,并且响应于被根据校准图案用辐射束(22;22a、22b)照射而将信号输出到控制单元(50)。控制单元(50)还适于基于由传感器布置(56)输出的信号生成由入射在传感器布置(56)上的辐射束(22;22a、22b)产生的实际照射图案的数字图像,将实际照射图案的数字图像与参考图案的数字图像进行比较,以便确定实际照射图案与参考图案之间的偏差,并且基于所确定的实际照射图案与参考图案之间的偏差来校准照射系统(18)。
搜索关键词: 用于 校准 生产 三维 工件 设备 照射 系统 装置 方法
【主权项】:
1.一种用于校准用于生产三维工件的设备(10)的照射系统(18)的装置(48),所述装置(48)包括:‑控制单元(50),适于控制所述照射系统(18),以便根据校准图案将辐射束(22;22a、22b)照射到照射平面(52)上,以及‑传感器布置(56),适于布置在所述照射平面(52)中,并且响应于被根据所述校准图案用所述辐射束(22;22a、22b)照射而将信号输出到所述控制单元(50),其中,所述控制单元(50)还适于:‑基于所述传感器布置(56)输出的所述信号生成由入射在所述传感器布置(56)上的所述辐射束(22;22a、22b)产生的实际照射图案的数字图像,‑将所述实际照射图案的所述数字图像与参考图案的数字图像进行比较,以便确定所述实际照射图案与所述参考图案之间的偏差,以及‑基于所确定的所述实际照射图案与所述参考图案之间的偏差来校准所述照射系统(18)。
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