[发明专利]用于制造光学片模块的方法和设备在审
| 申请号： | 201780034290.3 | 申请日： | 2017-06-02 |
| 公开（公告）号： | CN109328316A | 公开（公告）日： | 2019-02-12 |
| 发明（设计）人： | 闵池泓 | 申请（专利权）人： | 株式会社LMS |
| 主分类号： | G02B5/28 | 分类号： | G02B5/28;B29C65/48;B29C43/34 |
| 代理公司： | 北京金宏来专利代理事务所(特殊普通合伙) 11641 | 代理人： | 许振强;杜正国 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明涉及用于制造光学片模块的方法，并且该方法包括：用液态源材料涂覆第一基础膜的顶表面以形成第一结构化图案的第一图案形成步骤；在保持第一结构化图案的形状的同时使第一结构化图案半固化的临时图案固化步骤；用粘合层涂覆第二基础膜的表面的粘合层涂覆步骤；使涂覆在第二基础膜上的粘合层半固化的临时粘合层固化步骤；将第一基础膜的第一结构化图案的至少一部分粘合到第二基础膜的底表面的粘合步骤；以及在粘合第一基础膜和第二基础膜的同时使第一结构化图案固化的主固化步骤。 | ||
| 搜索关键词： | 基础膜 结构化图案 涂覆 粘合层 固化 半固化 光学片 粘合 图案形成步骤 方法和设备 液态源材料 临时图案 临时粘合 粘合步骤 顶表面 主固化 制造 | ||
【主权项】：
1.用于制造光学片模块的方法，其特征在于：所述方法包括：用液态源材料涂覆第一基础膜的顶表面以形成第一结构化图案的第一图案形成步骤；在保持所述第一结构化图案的形状的同时使所述第一结构化图案半固化的临时图案固化步骤；用粘合层涂覆第二基础膜的表面的粘合层涂覆步骤；使涂覆在所述第二基础膜上的粘合层半固化的临时粘合层固化步骤；将所述第一基础膜的所述第一结构化图案的至少一部分粘合到所述第二基础膜的底表面上的粘合步骤；以及在粘合所述第一基础膜和所述第二基础膜的同时使所述第一结构化图案固化的主固化步骤。
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