[发明专利]防污覆盖膜和防污覆盖体有效
| 申请号： | 201780034837.X | 申请日： | 2017-06-05 |
| 公开（公告）号： | CN109312193B | 公开（公告）日： | 2021-02-02 |
| 发明（设计）人： | 小中洋辅;天良智尚 | 申请（专利权）人： | 松下知识产权经营株式会社 |
| 主分类号： | C09D201/00 | 分类号： | C09D201/00;C09D5/16;C09D7/61 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 龙淳;吕秀平 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的防污覆盖膜形成于覆盖对象物的表面，至少由纳米颗粒构成，具有凹凸，并且凸部的曲率半径在100nm以下。使有机系模拟尘埃和无机系模拟尘埃混合而成的混合模拟尘埃附着并将其震掉后，利用光学显微镜进行拍摄，对所拍摄的图像进行二值化处理，将由上述处理算出的残存的上述混合模拟尘埃的面积比率作为尘埃附着面积，将防污覆盖膜上的尘埃附着面积相对于未形成防污覆盖膜的表面上的尘埃附着面积的比率作为尘埃附着率时，防污覆盖膜的尘埃附着率在15％以下。 | ||
| 搜索关键词： | 防污 覆盖 | ||
【主权项】：
1.一种防污覆盖膜，其特征在于：该防污覆盖膜形成于覆盖对象物的表面，至少由纳米颗粒构成，该防污覆盖膜具有凹凸，并且凸部的曲率半径在100nm以下，并且，使有机系模拟尘埃和无机系模拟尘埃混合而成的混合模拟尘埃附着并将其震掉后，利用光学显微镜进行拍摄，对所拍摄的图像进行二值化处理，将由所述处理算出的残存的所述混合模拟尘埃的面积比率作为尘埃附着面积，将所述覆盖膜上的尘埃附着面积相对于未形成所述覆盖膜的所述表面上的尘埃附着面积的比率作为尘埃附着率时，该尘埃附着率在15％以下。
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