[发明专利]在逻辑及热点检验中使用Z层上下文来改善灵敏度及抑制干扰的系统及方法有效

专利信息
申请号: 201780035591.8 申请日: 2017-06-16
公开(公告)号: CN109314067B 公开(公告)日: 2020-07-17
发明(设计)人: P·K·佩拉利;李胡成 申请(专利权)人: 科磊股份有限公司
主分类号: H01L21/66 分类号: H01L21/66
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 张世俊
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明揭示用于从晶片的缺陷扫描去除干扰数据的系统及方法。处理器接收具有一或多个z层的对应于晶片的设计文件。所述处理器接收所述晶片的临界区域且指示子系统捕获所述晶片的对应图像。接收缺陷位置且对准所述设计文件与所述缺陷位置。使用潜在缺陷位置及所述所对准设计文件的所述一或多个z层来识别干扰数据。所述处理器接着从所述一或多个潜在缺陷位置去除所述所识别干扰数据。
搜索关键词: 逻辑 热点 检验 使用 上下文 改善 灵敏度 抑制 干扰 系统 方法
【主权项】:
1.一种用于去除干扰数据的方法,其包括:在处理器处接收对应于晶片的设计文件,所述设计文件具有一或多个z层;在所述处理器处接收所述晶片的一或多个临界区域;指示图像数据获取子系统捕获对应于所述晶片的所述一或多个临界区域的一或多个图像;在所述处理器处接收对应于所述晶片的所述一或多个临界区域的所述一或多个图像中的一或多个潜在缺陷位置;使用所述处理器来对准所述设计文件与对应于所述晶片的所述一或多个临界区域的所述一或多个潜在缺陷位置;使用所述处理器以基于每一潜在缺陷位置及所述所对准设计文件的所述一或多个z层来识别所述一或多个潜在缺陷位置中的干扰数据;及使用所述处理器从所述一或多个潜在缺陷位置去除所述所识别干扰数据。
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