[发明专利]用于产生真空的装置中的旁通阀

摘要

公开了文丘里装置，该文丘里装置具有限定导管的壳体，该导管具有文丘里间隙。旁通止回阀位于文丘里间隙下游且旁通文丘里间隙，其限定了内腔和安置在旁通止回阀中的密封构件，该内腔具有第一阀座、第二阀座、入口端口、至少两个出口端口，该密封构件可在抵靠第一阀座的关闭位置和抵靠第二阀座的打开位置之间平移。旁通止回阀的两个出口端口在距导管的顶部一定距离的相对的位置处进入导管，导管的顶部位于壳体的正中矢状平面处。此外，从文丘里间隙的下游和两个出口端口中的每一个的上游的锥形部分到两个出口端口的下游的排出部分的过渡形成了导管逐渐连续呈锥形的内表面。

主权项

1.一种文丘里装置，包括：壳体，限定导管和位于所述导管中的文丘里间隙；以及旁通止回阀，设置在所述文丘里间隙的下游并且旁通所述文丘里间隙；其中所述旁通止回阀限定内腔和所述内腔中的密封构件，所述内腔具有第一阀座、第二阀座、入口端口、至少两个出口端口，所有端口与所述内腔流体连通，所述密封构件可在抵靠所述第一阀座的关闭位置和抵靠所述第二阀座的打开位置之间平移；其中所述两个出口端口在相距所述导管的顶部一定距离的相对位置处进入导管，所述导管的所述顶部位于所述壳体的正中矢状平面处，并且从所述文丘里间隙的下游和所述两个出口端口中的每一个的上游的锥形部分到所述两个出口端口的下游的排出部分的过渡形成了所述导管逐渐连续呈锥形的内表面。