[发明专利]带陶瓷覆膜的构件和使用了该构件的玻璃制品的生产设备有效
| 申请号： | 201780036254.0 | 申请日： | 2017-06-06 |
| 公开（公告）号： | CN109312443B | 公开（公告）日： | 2020-11-27 |
| 发明（设计）人： | 浜岛和雄;松冈瑞树 | 申请（专利权）人： | AGC株式会社 |
| 主分类号： | C23C4/10 | 分类号： | C23C4/10;C04B41/87;C23C4/134 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 王海川;穆德骏 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
将一种能够兼顾陶瓷覆膜的特质与气体阻隔性、并且在用作构成玻璃制品的制造装置的陶瓷制构件、金属制构件的覆膜时不会形成具有比气氛温度低的熔点的复合氧化物的陶瓷喷镀覆膜形成在陶瓷制构件、金属制构件上。一种带陶瓷覆膜的构件，其为在陶瓷制构件、或金属制构件的表面的至少一部分上形成有陶瓷喷镀覆膜的带覆膜的构件，所述陶瓷喷镀覆膜含有Al |
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| 搜索关键词： | 陶瓷 构件 使用 玻璃制品 生产 设备 | ||
【主权项】：
1.一种带陶瓷覆膜的构件，其为在陶瓷制构件、或金属制构件的表面的至少一部分上形成有陶瓷喷镀覆膜的带覆膜的构件，其特征在于，所述陶瓷喷镀覆膜含有Al2O3和12CaO·7Al2O3，且CaO与Al2O3的重量比率(CaO/Al2O3)大于0.11且小于等于0.50。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C4-00 熔融态覆层材料喷镀法，例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆
C23C4-02 .待镀材料的预处理，例如为了在选定的表面区域镀覆
C23C4-04 .以镀覆材料为特征的
C23C4-12 .以喷镀方法为特征的
C23C4-18 .后处理
C23C4-14 ..用于长形材料的镀覆
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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C23C4-04 .以镀覆材料为特征的
C23C4-12 .以喷镀方法为特征的
C23C4-18 .后处理
C23C4-14 ..用于长形材料的镀覆
