[发明专利]通过使用光剂来进行的临界尺寸控制有效
| 申请号： | 201780036940.8 | 申请日： | 2017-05-12 |
| 公开（公告）号： | CN109313395B | 公开（公告）日： | 2021-05-14 |
| 发明（设计）人： | 安东·J·德维利耶;迈克尔·A·卡尔卡西 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/40;G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 康建峰;杨华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种用于临界尺寸控制的方法，其中接纳具有下伏层和形成在下伏层上的图案化层的衬底，图案化层包括辐射敏感材料以及具有第一临界尺寸的变化的高度的图案。该方法还包括：在图案化层之上施加外涂层，外涂层包含光剂，光剂选自于光敏剂生成剂化合物、光敏剂化合物、光酸生成剂化合物、光活性剂、含酸化合物或它们中的两个或更多个的组合。然后，将外涂层曝光于电磁辐射，其中，被施加于衬底的不同区域的电磁辐射的剂量是变化的，然后对外涂层和图案化层进行加热。该方法还包括：对外涂层和图案化层进行显影以将图案化层的第一临界尺寸变更为第二临界尺寸。 | ||
| 搜索关键词： | 通过 使用 光剂来 进行 临界 尺寸 控制 | ||
【主权项】：
1.一种用于对衬底进行图案化的方法，包括：接纳衬底，所述衬底包括：下伏层，以及形成在所述下伏层上的图案化层，所述图案化层包括辐射敏感材料并且还包括具有变化的高度并且具有第一临界尺寸的图案；在所述图案化层之上施加外涂层，所述外涂层包括光剂，所述光剂选自于光敏剂生成剂化合物、光敏剂化合物、光酸生成剂化合物、光活性剂、含酸化合物或它们中的两个或更多个的组合；将所述外涂层曝光于电磁辐射，其中，被施加于所述衬底的不同区域的电磁辐射的剂量是变化的；对所述外涂层和所述图案化层进行加热；以及对所述外涂层和所述图案化层进行显影以将所述图案化层的所述第一临界尺寸变更为第二临界尺寸。
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