[发明专利]冲洗组合物、形成抗蚀剂图案的方法以及半导体器件的制备方法有效
| 申请号： | 201780038021.4 | 申请日： | 2017-06-19 |
| 公开（公告）号： | CN109313398B | 公开（公告）日： | 2022-08-02 |
| 发明（设计）人： | 山本和磨;松浦裕里子;八嶋友康;长原达郎 | 申请（专利权）人： | AZ电子材料(卢森堡)有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/40 | 分类号： | G03F7/40 |
| 代理公司： | 北京三幸商标专利事务所(普通合伙) 11216 | 代理人： | 刘卓然 |
| 地址： | 卢森堡国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种新的冲洗组合物、使用该冲洗组合物形成抗蚀图案、以及一种在光刻法中使用该冲洗组合物制备半导体器件的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 冲洗 组合 形成 抗蚀剂 图案 方法 以及 半导体器件 制备 | ||
【主权项】：
1.一种冲洗组合物，其包含由下式(I)表示的表面活性剂、C2‑C16二醇衍生物和水，![]()
其中X为氧、氮或碳，R1、R2和R3独立地为氢、氟或C1‑5烷基，Y为氢、氟或C1‑5烷基，每个Z独立地为氢、氟或C1‑5烷基，或Y和Z结合在一起形成单键，l为1、2、3、4或5，m为0、1、2、3、4或5，以及n为0、1或2。
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