[发明专利]用于表面微观纹理化的光学掩模的制造系统和方法，以及表面微观纹理化的装置和方法

摘要

本发明涉及一种用于表面微观纹理化的光学掩模(35)的制造系统(2)，所述系统(2)包括：具有待纹理化的表面(11)的基板(10)；覆盖基板(10)表面(11)并具有暴露于外部环境的外表面(21)的材料层(20)；生成和沉积装置，用于在所述材料层(20)的外表面(21)上生成和沉积液滴(30)，所述液滴通过冷凝形成特定的排列(31)，从而在所述材料层(20)的外表面(21)上形成光学掩模(35)。本发明还涉及包括所述类型的系统(2)的处理装置。本发明还涉及制备掩模的方法以及表面微观纹理化方法。

主权项

1.一种用于表面微观纹理化的光学掩模(35)的制造系统(2)，其特征在于，所述系统(2)包括：‑具有待纹理化表面(11)的基板(10)；‑材料层(20)，所述材料层(20)覆盖基板(10)的表面(11)并具有暴露于外部环境的外表面(21)；和‑生成和沉积液滴的装置(40)，所述生成和沉积液滴的装置(40)在材料层(20)的外表面(21)上生成和沉积液滴(30)，所述液滴通过冷凝形成特定的排列(31)，从而在材料层(20)的外表面(21)上形成光学掩模(35)。