[发明专利]在像素内的多个位点的发光成像中使用的基于光子结构的设备和组成物及使用其的方法有效
| 申请号： | 201780039083.7 | 申请日： | 2017-04-21 |
| 公开（公告）号： | CN109690359B | 公开（公告）日： | 2021-10-15 |
| 发明（设计）人： | 尤拉伊·托波兰希克;程·弗兰克·钟 | 申请（专利权）人： | 伊鲁米那股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B1/00 | 分类号： | G02B1/00;G01N21/64;H01L27/146 |
| 代理公司： | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人： | 张瑞;杨明钊 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种用于在发光成像中使用的设备。该设备可以包括成像像素阵列和布置在成像像素阵列上的光子结构。该设备还可以包括布置在光子结构上的特征阵列。特征阵列的第一特征可以布置在成像像素阵列的第一像素上，并且特征阵列的第二特征可以布置在第一像素上并在空间上从第一特征移位。第一发光体可布置在第一特征内或之上，以及第二发光体可布置在第二特征内或之上。该设备还可以包括辐射源，其被配置为在第一时间产生具有第一特性的第一光子，并且被配置为在第二时间产生具有第二特性的第二光子。第二特性可以不同于第一特性，以及第二时间可以不同于第一时间。第一像素可以选择性地接收由第一发光体在第一时间响应于第一光子而发射的冷光，并且可以选择性地接收由第二发光体在第二时间响应于第二光子而发射的冷光。 | ||
| 搜索关键词： | 像素 个位 发光 成像 使用 基于 光子 结构 设备 组成 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于在发光成像中使用的设备，所述设备包括：成像像素阵列；光子结构，其布置在所述成像像素阵列上；特征阵列，其布置在所述光子结构上，所述特征阵列的第一特征布置在所述成像像素阵列的第一像素上，所述特征阵列的第二特征布置在所述第一像素上并在空间上从所述第一特征移位；第一发光体，其布置在所述第一特征内或之上；第二发光体，其布置在所述第二特征内或之上；以及辐射源，其被配置为在第一时间产生具有第一特性的第一光子，并且被配置为在第二时间产生具有第二特性的第二光子，所述第二特性不同于所述第一特性，所述第二时间不同于所述第一时间，所述第一像素选择性地接收由所述第一发光体在所述第一时间响应于所述第一光子而发射的冷光，并且选择性地接收由所述第二发光体在所述第二时间响应于所述第二光子而发射的冷光。
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