[发明专利]减少外来物质进入的光学子组件在审
| 申请号： | 201780039152.4 | 申请日： | 2017-04-25 |
| 公开（公告）号： | CN109791260A | 公开（公告）日： | 2019-05-21 |
| 发明（设计）人： | 何宜龙;廖浩翔;李贾斯汀 | 申请（专利权）人： | 祥茂光电科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B6/42 | 分类号： | G02B6/42 |
| 代理公司： | 宁波市鄞州甬致专利代理事务所(普通合伙) 33228 | 代理人： | 李迎春 |
| 地址： | 美国德克萨斯州舒*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 公开了用于填充压配合部件和光学子组件壳体之间形成的间隙的技术，以引入可防止或以其他方式减轻污染物进入的密封或屏障。在一实施例中，在将部件压配合到光学子组件壳体中之前，将一层密封剂材料施加到光学部件的一个或多个表面上。作为另一种选择，或者除了将密封剂施加到光学部件的一个或多个表面之外，密封剂材料层可设置在光学子组件壳体的外表面和压配合到其中的光学部件之间形成的界面上。本文公开的技术特别适用于小尺寸光学子组件，这种小尺寸光学子组件包括在制造期间压配合到子组件壳体的开口中的一个或多个光学组件。 | ||
| 搜索关键词： | 光学子组件 壳体 光学部件 压配合 施加 密封剂材料层 密封剂材料 压配合部件 光学组件 外来物质 密封剂 子组件 填充 密封 污染物 开口 屏障 引入 制造 | ||
【主权项】：
1.一种光学子组件，包括：壳体，具有多个侧壁，所述多个侧壁之间提供一空腔；开口，由从该壳体的外表面延伸到该空腔的所述多个侧壁的至少一个表面限定；光学部件组件，至少部分地设置在该开口内，该光学部件组件至少部分地基于在该光学部件组件和限定该开口的所述多个侧壁的该至少一个表面之间形成的过盈配合保持在该开口中；以及密封剂层，沿着在该光学部件组件的表面和限定该开口的该至少一个表面之间形成的界面设置，以减少污染物进入该空腔。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于祥茂光电科技股份有限公司，未经祥茂光电科技股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201780039152.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
