[发明专利]用于沉积镧、镧氧化物和镧氮化物膜的镧前驱物在审
申请号: | 201780039664.0 | 申请日: | 2017-06-13 |
公开(公告)号: | CN109415385A | 公开(公告)日: | 2019-03-01 |
发明(设计)人: | 戴维·汤普森;杰弗里·W·安西斯 | 申请(专利权)人: | 应用材料公司 |
主分类号: | C07F5/00 | 分类号: | C07F5/00;C23C16/18;C23C16/455;C23C16/40;C23C16/50 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金国;赵静 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: |
金属配位络合物,包含配位至至少一个氮杂‑烯丙基配体的金属原子,所述配体具有由下式表示的结构: |
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搜索关键词: | 非支链 金属配位络合物 配体 烷基 氮化物膜 个碳原子 金属原子 镧氧化物 沉积膜 反应物 环烷基 前驱物 烯丙基 硅基 配位 炔基 群组 烯基 沉积 自由 | ||
【主权项】:
1.一种金属配位络合物,包含金属原子,所述金属原子配位至至少一个氮杂‑烯丙基配体,所述配体具有由下式表示的结构:
其中R1‑R4各自独立地选自由H、支链或非支链的C1‑C6烷基、支链或非支链的C1‑C6烯基、支链或非支链的C1‑C6炔基、具有在1至6个碳原子的范围内的环烷基、硅基和卤素组成的群组。
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