[发明专利]电光学聚合物在审
| 申请号： | 201780039855.7 | 申请日： | 2017-06-28 |
| 公开（公告）号： | CN109415468A | 公开（公告）日： | 2019-03-01 |
| 发明（设计）人： | 大友明;青木勋;山田俊树 | 申请（专利权）人： | 国立研究开发法人情报通信研究机构 |
| 主分类号： | C08F220/36 | 分类号： | C08F220/36;C07D409/06;C07D495/04;C08F20/10;C08F265/00;G02F1/061 |
| 代理公司： | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人： | 康泉;王珍仙 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的课题在于提供一种新的电光学聚合物。另外，本发明的课题在于提供一种脂环族甲基丙烯酸酯系单体的配合比率低的、新的电光学聚合物。一种聚合物，具有反应性基团(A)的基础聚合物(a)与具有多个反应性基团(B)的电光学分子(b)通过反应性基团(A)与多个反应性基团(B)的反应来形成键(C)，键(C)为选自由(硫代)酯键、(硫代)氨基甲酸乙酯键、(硫代)脲键及(硫代)酰胺键构成的组中的至少一种。 | ||
| 搜索关键词： | 反应性基团 聚合物 电光学 硫代 脂环族甲基丙烯酸酯 氨基甲酸乙酯键 基础聚合物 配合比率 酰胺键 脲键 酯键 自由 | ||
【主权项】：
1.一种聚合物，其中，具有反应性基团A的基础聚合物a与具有多个反应性基团B的电光学分子b通过反应性基团A与多个反应性基团B的反应来形成键C，键C为选自由(硫代)酯键、(硫代)氨基甲酸乙酯键、(硫代)脲键及(硫代)酰胺键构成的组中的至少一种。
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