[发明专利]高精准度蔽荫掩模沉积系统及其方法有效
| 申请号： | 201780040228.5 | 申请日： | 2017-05-17 |
| 公开（公告）号： | CN109642313B | 公开（公告）日： | 2021-03-09 |
| 发明（设计）人： | A·P·高希;F·瓦然;M·阿南丹;E·多诺霍;I·I·哈尤林;T·阿里;K·泰斯 | 申请（专利权）人： | 埃马金公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/54 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 顾晨昕 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明揭示一种能够在衬底上形成高分辨率材料图案的直接沉积系统。来自蒸镀源的汽化原子通过蔽荫掩模的孔隙图案以按所要图案沉积于所述衬底上。在到达所述蔽荫掩模之前，所述汽化原子通过操作为空间滤波器的准直器，所述空间滤波器阻挡不沿几乎垂直于衬底表面的方向行进的任何原子。因此，通过所述蔽荫掩模的所述汽化原子在通过其孔隙之后很少或不展现横向散布(即，羽化)，且所述材料以相对于所述蔽荫掩模的所述孔隙图案具有非常高保真度的图案沉积于所述衬底上。因此，本发明减轻对先前技术中通常所需的沉积材料的区域之间的相对较大空间的需要，借此实现高分辨率图案化。 | ||
| 搜索关键词： | 精准 度蔽荫掩模 沉积 系统 及其 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于将第一材料沉积于衬底的沉积区域中的多个沉积位点上的系统，所述多个沉积位点布置成第一布置，其中所述系统包括：源，其用于提供所述第一材料的第一多个汽化原子，所述第一多个汽化原子中的每一者沿传播方向传播，所述传播方向以相对于垂直于由所述衬底界定的第一平面的第一方向的传播角为特征，其中所述第一多个汽化原子的传播角的范围跨越第一角范围；蔽荫掩模，其包括布置成所述第一布置的多个孔隙；及准直器，其包括多个通道，所述准直器介于所述源与所述蔽荫掩模之间，其中所述多个通道中的每一者经设定尺寸及布置以仅使具有小于所述第一角范围的第二角范围内的传播角的汽化原子通过。
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