[发明专利]相位差膜在审
| 申请号： | 201780040410.0 | 申请日： | 2017-06-05 |
| 公开（公告）号： | CN109416426A | 公开（公告）日： | 2019-03-01 |
| 发明（设计）人： | 幡中伸行;葛西辰昌;松野健次;白石贵志 | 申请（专利权）人： | 住友化学株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;C09K19/38;G02F1/13363;G09F9/00;G09F9/30;H01L27/32;H01L51/50;H05B33/02 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 杨宏军;唐峥 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的课题在于提供显示黑色时的漏光抑制性优异的相位差膜。本发明的解决手段为一种相位差膜，其具有至少2层相位差层，具有第一相位差层和第二相位差层，其中，第一相位差层具有式(1)、式(3)及式(4)表示的光学特性，第二相位差层具有式(2)、式(3)及式(4)表示的光学特性，该相位差膜具有式(2)、式(3)及式(4)表示的光学特性。200nm＜Re(550)＜320nm(1)，100nm＜Re(550)＜160nm(2)，Re(450)/Re(550)≤1.00(3)，1.00≤Re(650)/Re(550)(4)，式中，Re(450)表示波长450nm处的面内相位差值，Re(550)表示波长550nm处的面内相位差值，Re(650)表示波长650nm处的面内相位差值。 | ||
| 搜索关键词： | 相位差层 式( 2 ) 相位差膜 光学特性 式( 1 ) 波长 抑制性 漏光 式中 | ||
【主权项】：
1.相位差膜，其具有至少2层相位差层，具有第一相位差层和第二相位差层，其中，第一相位差层具有式(1)、式(3)及式(4)表示的光学特性，第二相位差层具有式(2)、式(3)及式(4)表示的光学特性，所述相位差膜具有式(2)、式(3)及式(4)表示的光学特性，200nm＜Re(550)＜320nm (1)100nm＜Re(550)＜160nm (2)Re(450)/Re(550)≤1.00 (3)1.00≤Re(650)/Re(550) (4)式中，Re(450)表示波长450nm处的面内相位差值，Re(550)表示波长550nm处的面内相位差值，Re(650)表示波长650nm处的面内相位差值。
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