[发明专利]将爆轰纳米金刚石和类金刚石碳共沉积到衬底上的方法和包含爆轰纳米金刚石和类金刚石碳的复合膜在审
| 申请号： | 201780042035.3 | 申请日： | 2017-05-05 |
| 公开（公告）号： | CN109563612A | 公开（公告）日： | 2019-04-02 |
| 发明（设计）人： | J.埃图拉;A.艾耶;J.科斯金恩 | 申请（专利权）人： | 阿尔托大学注册基金会 |
| 主分类号： | C23C14/06 | 分类号： | C23C14/06;C23C14/22;C23C14/35;C23C14/34;H01P3/00;G01N33/483;H01L31/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 童春媛;万雪松 |
| 地址： | 芬兰*** | 国省代码： | 芬兰;FI |
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| 摘要： | 本申请提供用物理气相沉积(PVD)方法将纳米金刚石和类金刚石碳共沉积到衬底上的方法，该方法包括：提供衬底，提供离子化碳等离子体的来源，提供纳米金刚石的来源，将纳米金刚石和离子化碳等离子体向衬底喷射以将纳米金刚石和类金刚石碳共沉积到衬底上。本申请还提供包含纳米金刚石和类金刚石碳的复合膜。 | ||
| 搜索关键词： | 纳米金刚石 类金刚石碳 衬底 共沉积 碳等离子体 复合膜 离子化 爆轰 物理气相沉积 申请 喷射 | ||
【主权项】：
1.一种用物理气相沉积(PVD)方法将纳米金刚石和类金刚石碳共沉积到衬底上的方法，所述方法包括：‑提供衬底，‑提供离子化碳等离子体的来源，‑提供纳米金刚石的来源，‑将所述纳米金刚石和所述离子化碳等离子体向所述衬底喷射，以将所述纳米金刚石和类金刚石碳共沉积到所述衬底上。
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