[发明专利]用于对较大规模的空间和设备消毒的系统在审
| 申请号： | 201780042406.8 | 申请日： | 2017-05-23 |
| 公开（公告）号： | CN109414516A | 公开（公告）日： | 2019-03-01 |
| 发明（设计）人： | J·斯塔克韦瑟;J·伊利扎德;J·温;P·希尔特;T·泰勒 | 申请（专利权）人： | UV概念股份有限公司 |
| 主分类号： | A61L2/10 | 分类号： | A61L2/10 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 朱海涛 |
| 地址： | 美国科*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本公开总体上涉及用于对空间和设备消毒的系统、装置和方法。尤其，本公开涉及使用诸如紫外(UV)光更具体地UV‑C光的光源对较大规模的设备或空间消毒的系统、装置和方法，例如，滚动的围场。本公开的系统和方法在用于处理医疗设备或空间的医疗设施中是尤其有用的，在所述医疗设施处病原体的流行要求频繁的消毒。 | ||
| 搜索关键词： | 设备消毒 医疗设施 空间消毒 医疗设备 病原体 围场 光源 消毒 滚动 | ||
【主权项】：
1.一种消毒系统，其包括：腔室，所述腔室包括限定内部的第一侧壁、第二侧壁和后壁；所述第一侧壁、第二侧壁和后壁中的每个的内表面，所述内表面包括至少一个反射单元；容纳在每个反射单元内的至少一个能量源；以及围绕所述腔室的底部部分设置的多个滚动元件。
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