[发明专利]高精准度蔽荫掩模沉积系统及其方法

摘要

本发明揭示一种在衬底上形成高分辨率材料图案的直接沉积系统。来自蒸镀源的汽化原子通过蔽荫掩模的通孔图案以按所要图案沉积于所述衬底上。将所述蔽荫掩模固持于掩模卡盘中，所述掩模卡盘使所述蔽荫掩模及所述衬底能够间隔可小于10微米的距离。在到达所述蔽荫掩模之前，汽化原子通过操作为空间过滤器的准直器，所述空间过滤器阻挡未沿几乎垂直于所述衬底表面的方向行进的任何原子。通过所述蔽荫掩模的汽化原子在通过通孔之后很少或不展现横向散布，且所述材料以相对于所述蔽荫掩模的所述通孔图案具有非常高保真度的图案沉积于所述衬底上。

主权项

1.一种用于将第一材料沉积于衬底的沉积区域中的多个沉积位点上的系统，所述多个沉积位点布置成第一布置，其中所述衬底包含第一主表面及包括所述沉积区域的第二主表面，所述系统包括：源，其用于提供所述第一材料的第一多个汽化原子，所述第一多个汽化原子中的每一者沿传播方向传播，所述传播方向以相对于垂直于由所述衬底界定的第一平面的第一方向的传播角为特征，其中所述第一多个汽化原子的传播角的范围跨越第一角范围；蔽荫掩模，其包括布置成所述第一布置的多个通孔，其中所述蔽荫掩模包含第三主表面及包括所述通孔的第四主表面；第一卡盘，其用于固持所述衬底，所述第一卡盘经设定尺寸及布置以将第一吸力选择性地施予所述第一主表面；第二卡盘，其用于固持所述蔽荫掩模，所述第二卡盘包括支架，所述支架环绕使所述材料能够通过所述第二卡盘而到所述通孔的第一开口，所述第二卡盘经设定尺寸及布置以将第二吸力选择性地施予所述第三主表面；准直器，其包括多个通道，所述准直器介于所述源与所述蔽荫掩模之间，其中所述多个通道中的每一者经设定尺寸及布置以仅使具有小于所述第一角范围的第二角范围内的传播角的汽化原子通过；及定位系统，其用于控制所述第一卡盘及所述第二卡盘的相对位置以使所述蔽荫掩模及所述衬底对准。